El silicio polimorfo nanoestructurado es el material que ha llamado la atencion de los investigadores por sus buenas caracteristicas opticas y electronicas. En esta investigacion nos centramos en la sintesis del silicio polimorfo nanoestructurado utilizando la tecnica de deposito quimico en fase vapor asistido por plasma, usando como gas precursor del silicio, diclorosilano. Este gas nos proporciono la presencia del ion cloruro, siendo esto una ventaja durante el proceso de crecimiento y en la estructura final de la pelicula donde se pudo corroborar la formacion de enlaces mas estables en la.
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